洗滌器用於氣體和顆粒控製,利用水或其他液體從廢氣流中去除汙染物。
高效幹式洗滌器被推薦用於去除氣溶膠霧的應用,在這些應用中用水量最低是最重要的,包括鹽酸、硫酸、硝酸和鉻酸洗滌。使用我們的hi - duall品牌HEXmaster幹式洗滌器,您將擁有最低的壓降複合網墊(CMP)係統,它也滿足嚴格的法規,包括MACT(最大可用控製技術)的要求。
不同於其他填料床洗滌器,我們的HEXmaster幹式洗滌器在正常運行期間不依賴於介質的水衝洗,建議用於最低用水量是至關重要的應用。
四十多年來,hi - duall品牌一直是淨化產品設計和供應的全球領導者。我們使用最新的技術來管理揮發性和危險的廢氣流廢物在廣泛的行業。我們全麵的產品係列提供所有所需的組件,以管理收集,處理,和控製腐蝕性氣流,氣體,霧和蒸汽。我們的高效幹式洗滌器在去除汙染物方麵表現出色,需要盡量減少水的使用是關鍵。當您使用hi - duall產品時,您可以放心,您的排放得到了高效和有效的淨化。
伴隨著專業的工藝,hi - duall可以創建定製設計的解決方案,以滿足您的係統需求,無論大小。我們的產品適應性強,足夠熟練,可以管理範圍廣泛的工作。從我們的全包係列中選擇最適合您應用的設備;我們將與您一路同行。我們的專家人員提供無與倫比的知識淨化過程,我們的客戶服務設置了行業的標準。選擇合適的淨化設備絕非易事。但是選擇HEE-Duall使任務變得簡單。選擇行業中最先進、最可靠、最精心製作的設備。
特性和優點
- 擁有總成本低
- 低維護和低運營成本,因為我們的HEXTRACK專利正在審批中,無需高維護的多墊係統
- 最小的停機時間和生產力損失-我們的幹式洗滌器在幹燥時隻需要定期清洗-清洗時不需要停機
- 高可靠性- HEXTRACK使我們的洗滌器超過嚴格的美國環保局限製(隻需一個CMP)和其他法規(。006毫克/安培-小時。加州和.15 mg/m3聯邦)
- 回收鉻來節省開支
- 最低壓降CMP係統可用
- 與頂部拆除相比,側檢修門更容易拆除CMP
- 經定期衝洗後幹涸
- 由1/4″到1/2″厚的I型,I級PVC製成
- 每一級的磁感應儀表
- 快速釋放旋鈕,方便墊去除
- 可選自動衝洗控製麵板和標題V監控係統
- 利用粒子生長分離原理
聯係
列儂,密歇根州,美國
電話:1-844-287-4044
阿納海姆,加利福尼亞州,美國
電話:1-844-287-4044
Nunspeet,荷蘭
電話:+ 31-341-252-635
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